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CBM(物理学术语“导带底”)

CBM(物理学术语“导带底”)

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CBM(物理学术语“导带底”)

CBM(Conduction Band Minimum,导带底)是半导体材料导带中能量最低点的物理学术语,与价带顶(VBM)共同构成能带结构分析的核心参数 。常通过第一性原理计算获得 。

在半导体异质结研究中,CBM与VBM的相对位置决定能带对齐类型。Ⅱ型对齐结构中呈现“CBM_A>CBM_B”的特征,可有效分离光生载流子,适用于光催化分解水反应。例如GaN/MoS₂范德华异质结形成Ⅱ型能带结构,满足H⁺/H₂还原电位要求(−4.44 eV) 。β-Ga₂O₃等材料的CBM通常位于布里渊区Γ点附近 。

研究表明,应变调控(如双轴拉伸3%)和层间相互作用可改变CBM位置,实现能带对齐类型转变。As2I6双层的CBM在Γ-K方向具有谷简并度,层间作用可使其发生位置偏移 。

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